技术参数：
1、取样系统
（1）取样压力范围为取样压力为常压取样（≥1000 mbar）。
（2）取样方式为三级差分锥孔式分子束取样。
2、 真空系统：三级真空取样系统。
（1）一级取样系统：配置真空室、镍分子漏孔、240L/sec 涡轮分子泵
组和真空规（常压取样时作为第三级真空），系统取样压力可以达到20mbar。
（2）二级取样系统：240L/sec 涡轮分子泵组、真空规、分子漏孔，系统取样压力可以达到 100mbar。
（3）三级取样系统：20m3/h 涡旋真空泵、相关连接部件、取样椎板等，系统取样压力可以达到 1000mbar。
（4）具有陶瓷取样挡板。
（5）真空保护：外部信号触发过压保护、内部软件过压保护；
（6）质谱仪真空室烘烤温度：250℃，真空室真空度可达 1*10-6 mbar。
3、 离子源
（1）径向对称的双灯丝（铱灯丝），可调谐；
（2）具有电子附着离子化分析功能：用于分析自由基等反应活性高的粒子。
4、质量能量分析器
（1）双电子透镜系统：传输透镜和传输离子透镜。用于汲取或排除离子和电子，以便分析中性粒子时可以减少等离子体离子的背景谱影响。
（2）质量数范围：1～300 amu。
（3）四极杆类型：三级过滤四极杆；四极杆直径 6 mm；四极滤质器为电子控制，其软件可以调节，可根据实验需要优化所有参数；检测极限优于 50ppb；
（4）质量分辨率：1 amu 处峰谷为 5%的峰高；
（5）最大扫描速度：650 amu/sec；
（6）能量分析范围： 0～100eV；
（7）能量分析方式：45°扇区场能量分析器。
（8）能量通过率：100%
（9）能量带宽：0.5 eV。
5、检测器
（1）最小检测分压：≤5×10-15 mbar；
（2）选用脉冲离子计数检测器，分辨率 24bit 分辨率；
（3）动态测量范围：1：107
（4）信号选通分辨：TTL 输入，0.1µs，用于研究脉冲等离子体或质量分布随时间的变化。
6、系统控制软件和数据处理系统
（1）系统控制软件：通过 RS232 USB 或 Ethernet LAN，可在 Windows系统下工作，可对数据自动进行收集、显示、分析，控制四极杆及能量分析器的参数，常规气体定性定量分析和谱图检索等功能；
（2）操作模式：阈值离子化、正离子检测、多离子检测、离子质量分布分析、电子附着离子化、负离子检测、柱状图和峰形图。
（3）具备 2 种离子提取模式。中性粒子和自由基可在低压（10-5 Torr）下离子化。

用于分析低压及大气压等离子体中的中性粒子（分子和团簇）、自由基、正离子、负离子和离子能量分布。用于进行等离子体放电过程中的反应动力学、气体分析和团簇分析。

主机